光掩模版也叫MASK，IC行業(yè)稱Reticle，中文稱呼還有光罩，鉻板。

掩模版主要作為圖形信息的載體，通過曝光過程，將圖形轉(zhuǎn)移到被曝光產(chǎn)品(硅片，導(dǎo)電玻璃，銅箔等)上，從而實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移。

常見的光掩模版有三種，鉻版(chrome)、干版，菲林。

主要分兩個(gè)組成部分，基板和不透光材料?；逋ǔＪ歉呒兌龋头瓷渎?，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。

鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍?cè)诓Ａ路胶窦s0.1um的鉻層。

鉻的硬度比玻璃略大，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。應(yīng)用于芯片制造的光掩模為高敏感度的鉻版。

干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應(yīng)用于芯片制造。